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Quantera II 掃描XPS探針

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具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱上海德竹芯源科技有限公司
品牌
型號(hào)Quantera I
所在地上海
廠商性質(zhì)其他
更新時(shí)間2023/9/13 9:42:14
訪問(wèn)次數(shù)240

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公司介紹主營(yíng)產(chǎn)品

上海德竹芯源科技有限公司是一家專注于功率器件、光電器件、射頻器件、量子器件、MEMS傳感器領(lǐng)域的設(shè)備銷(xiāo)售、系統(tǒng)集成、設(shè)備國(guó)產(chǎn)化的公司。主要為高校、研究所、中試量產(chǎn)線及晶圓FAB廠提供半導(dǎo)體工藝設(shè)備、檢測(cè)設(shè)備、封裝設(shè)備、測(cè)試設(shè)備。目前公司已成為國(guó)內(nèi)少數(shù)幾家專業(yè)提供半導(dǎo)體工藝、檢測(cè)、封裝、測(cè)試整體解決方案的企業(yè)。公司主要成員為復(fù)旦大學(xué)、上海微系統(tǒng)所等半導(dǎo)體相關(guān)專業(yè)博士，擁有一支經(jīng)驗(yàn)豐富、技術(shù)過(guò)硬的團(tuán)隊(duì)。能夠出色地完成售前售中、售后的服務(wù)。目前公司已與眾多國(guó)際半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)建立了良好的合作關(guān)系(如:EVG、SAWNATEC、SENTECH、PICOSUN、SYSKEY、 Mavemn Panalyrical、PHL-CHINA、TEMPRESS,ROHDE&SCHWARZ、MPI等)，致力于根據(jù)用戶的科研方向和量產(chǎn)的器件類(lèi)別提供相應(yīng)的全套設(shè)備選型和工藝整體解決方案。

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無(wú)線電綜合測(cè)試儀

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PHI Quantera II 掃描XPS探針是 ULVAC-PHI 公司新研發(fā)的XPS分析儀器，是在 Quantum 2000 和 Quantera SXM 的基礎(chǔ)上延伸出來(lái)的，其革命性技術(shù)包括有：聚焦掃描X射線源，的雙束中和技術(shù)，在非常低的電壓下仍可保持高性能的離子束源以進(jìn)行XPS的深度分析，一個(gè)精密的五軸樣品臺(tái)和負(fù)責(zé)全自動(dòng)樣品傳送的機(jī)械手臂，以及一個(gè)自動(dòng)化且可支持互聯(lián)網(wǎng)遠(yuǎn)程控制的儀器操作平臺(tái)。Quantera II 增加了這些技術(shù)性能，提高了生產(chǎn)力，再一次提供了高性能的XPS系統(tǒng)，以滿足您當(dāng)前和未來(lái)的XPS需要。

Quantera II 掃描XPS探針產(chǎn)品信息

優(yōu)點(diǎn)

操作簡(jiǎn)單

● 無(wú)論您是在分析一個(gè)薄膜樣品、有機(jī)聚合物、一個(gè)大的塑料鏡片、不銹鋼刀片或焊錫球等，儀器所有的設(shè)置和設(shè)定都是相同的。操作者只需用鼠標(biāo)在樣品的光學(xué)圖像上單擊選擇一個(gè)或多個(gè)分析區(qū)域，打開(kāi)儀器的雙光束中和系統(tǒng)和自動(dòng)Z-軸高度調(diào)整功能，就可通過(guò)儀器軟件的自動(dòng)隊(duì)列（Add Q）執(zhí)行所有分析。整個(gè)操作流程不需要任何的設(shè)定調(diào)整，不用因樣品成分不一致而有任何顧慮，甚至也不需要有操作員整天待在儀器旁邊，一切的操作都可自動(dòng)完成。

圖1 - 全自動(dòng)無(wú)人值守，分析無(wú)憂的XPS Quantera II

薄膜分析

● Quantera II 不僅提供了無(wú)機(jī)薄膜樣品良好的深度剖面分析性能，而且也可利用 C₆₀離子槍對(duì)有機(jī)薄膜得出非常*的深度分析結(jié)果。

圖2 - (左) 以2 keV 氬離子濺射源對(duì)一個(gè)半導(dǎo)體封裝的錫球表面進(jìn)行深度分析；

(右) 使用10 keV C₆₀離子源，對(duì)50/50 Rapamycin和PLGA的薄膜進(jìn)行深度分析。

掃描 XPS探針

● PHI Quantera II 使用了聚焦掃描X射線源，使XPS微區(qū)分析變得更高效。如圖4所示，X射線源是經(jīng)由聚焦電子光柵掃描并撞擊在鋁陽(yáng)極上所產(chǎn)生的，由此產(chǎn)生的聚焦鋁X射線會(huì)再透過(guò)橢球形狀的單色器反射在樣品表面上。當(dāng)電子束掃描在鋁陽(yáng)極上時(shí)，所產(chǎn)生的X射線束在樣品上也會(huì)作出同步的掃描。X射線束的直徑大小可調(diào)范圍為 7.5 微米以下到 400 微米以上。

圖3 - (a) PHI 的聚焦掃描X射線源說(shuō)明。(b) 使用Quantera II 對(duì)MRS-3標(biāo)樣所生的二次電子像，可見(jiàn)

以Quantera II 可以分析到約直徑為6微米區(qū)域的功能。

微區(qū)光譜

● 以下圖5中聚合物表面異物樣品為例。在光學(xué)顯微鏡下，透明的聚合物薄膜表面上未發(fā)現(xiàn)有任何污染物。而使用二次電子影像時(shí)就立即顯示了聚合物表面上污染物的存在。在短短幾分鐘內(nèi)，Quantera II 儀器就可利用一個(gè)直徑為 20 微米的X射線束對(duì)污染物成分進(jìn)行分析，從而確定為氟碳污染物。

圖4 - Quantera II的污染分析。(a) 二次電子成像。(b) 多點(diǎn)采譜分析。(c) 碳 1s的圖譜。 (d) 元素分布圖（留意分布中右邊較小點(diǎn)的污染不含有氟或碳）。 (e) 對(duì)較小的污染做點(diǎn)分析，使用7.5微米的X射線束確定了第二污染物含有鋅的存在。