EVG 620BA 對準系統通過使用高精度的測量傳感器,如相機或掃描儀,來確定樣品的對齊情況,并使用控制系統對樣品進行微調,以確保樣品的精確對齊。
主要特點
● 高精度:通過高精度的測量傳感器來確定樣品的對齊情況,以保證樣品的精確對齊
● 高速度:通過快速的控制系統,系統可以快速地對樣品進行微調,以確保樣品的精確對齊
● 高可靠性:EVG 620BA 對準系統經過了嚴格的質量控制和測試,以保證其高可靠性和可靠性
主要應用領域
● 光學鍵合:通過精確對齊樣品來保證光學鍵合的高質量
● 光刻:精確對齊樣品以確保光刻的高質量
● 光電處理:通過精確對齊樣品來保證光電處理的高質量
● 其他光學處理應用:EVG 620BA 對準系統可用于其他光學處理應用,如微納光學等