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太倉中新寶智能裝備有限公司
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納米材料解聚分散機納米材料在應用中都會有一個普遍存在的現象那就是“團聚“，如二氧化硅、*、石墨烯等一些納米材料在出廠的時候是幾十納米的材料但是在長時間的放置或在用的時候添加了一些水或者有機溶劑會造成納米材料的團聚使得粒徑變大，粒徑由原來的十幾納米變成幾百納米或者各大。這個之后就需要一些設備對其進行解聚還原分散。
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納米材料在應用中都會有一個普遍存在的現象那就是“團聚”，如二氧化硅、*、石墨烯等一些納米材料在出廠的時候是幾十納米的材料但是在長時間的放置或在用的時候添加了一些水或者有機溶劑會造成納米材料的團聚使得粒徑變大，粒徑由原來的十幾納米變成幾百納米或者各大。這個之后就需要一些設備對其進行解聚還原分散。
ZKZSD/中新寶的解聚還原分散機的原理：
KZSD2000/04 為立式分體結構，通過皮帶傳動并實現加速，加速比為3：1 即正常50Hz 頻率下轉速為7890rpm 外加變頻可達13789rpm。KZSD2000/04 乳化頭直徑為55mm。
由此可得線速度（V=3.14*乳化頭直徑*轉速/60） V1=3.14*0.055*7890/60=23M/S V2=3.14*0.055*13789/60=40M/S
2，轉子結構更精密并有*設計,使之剪切作用力更大，效果更好。
ZKZSD 定轉子的間距為 0.2-0.3mm，齒縫間距為 1mm剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率剪切速率F(s-1)=v速率(m/s)/g定-轉子間距(m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
①轉子的線速度
②轉子-定子間距
結 合 ①，② 中 的 數 據 可 得 ： F1=（23/0.25）X1000=92,000S-1 F2=（40/0.25）X1000=160,000S-1
普通轉速為3000RPM 的機型大約在14,293-21,544S-1
3，德國進口雙端面機械密封擁有*結構和特殊材質保證高速運轉和長使用壽命
滿足以下條件使得機械密封的使用壽命更長： 可允許的壓力比率
充份的冷卻和濕度材料的合適搭配該密封件配有壓力平衡罐，保證機封上下端面受力平衡，同時可通過自身結
構的泵環效應和熱虹吸效應實現冷卻水的自動循環。該循環系統為獨立系統，與外界無接觸，平衡罐內冷卻液可選純化水或合適的溶劑。通過換熱管實現熱交換。
4，KZSD2000/4中試型乳化機與大型工業管線式量產機型配置基本相同
各種工作頭的種類及相應線速度相同，中試過程中的工藝參數在工業化后之后不用重新調整，從而將機器型號升級到工業化的過程中的風險降到低。
納米材料解聚分散機設備型號表：
型號 | 標準流量L/H | 輸出轉速Rpm | 標準線速度m/s | 馬達功率KW | 進口尺寸 | 出口尺寸 |
KZSD2000/4 | 300-1，000 | 18，000 | 51 | 4 | DN25 | DN15 |
KZSD2000/5 | 1，000-1,500 | 13，500 | 51 | 11 | DN40 | DN32 |
KZSD2000/10 | 3，000 | 9，300 | 51 | 22 | DN50 | DN50 |
KZSD2000/20 | 8，000 | 3，600 | 51 | 37 | DN80 | DN65 |
KZSD2000/30 | 20，000 | 3，600 | 51 | 75 | DN150 | DN125 |
KZSD2000/50 | 40，000 | 2，500 | 51 | 160 | DN200 | DN150 |
1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。
2 處理量取決于物料的粘度,稠度和z終產品的要求。
3 參數內的各種型號的流量主要取決于所配置的乳化頭的精密程度而定。
4 本表的數據因技術改動,定制而不同,正確的參數以提供的實物為準。
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