納米核酸導向藥物均質膠體磨
許多核酸藥物目前在臨床應用上**的難題就是在體內易于被降解的問題，難以 到達靶點部位，這是本領域難以克服的技術難題，大大限制了其臨床應用。
一種制備納米核酸導向藥物的方法，所述方法包括
(1)將C32粒子、導向物、核酸藥物混合分散，形成復合物；
(2)將(1)獲得的復合物進行聚乙二醇修飾，獲得納米核酸導向藥物。
在另一優選例中，所述的導向物是多肽，且步驟⑴包括(a)將C32與導向物進行酯化反應，形成C32-導向物復合物；以及(b)將C32-導向物復合物與核酸藥物混合，形成C32-導向物-核酸藥物復合物。在另一優選例中，步驟(a)中，C32與導向物的摩爾比是1 (2_3)；較佳地是 1 2.4。
在另一優選例中，步驟(a)中，酯化反應的催化劑是S0427Si02。在另一優選例中，步驟(a)中，酯化反應的時間是4士2小時；較佳地是4士 1小時。在另一優選例中，聚乙二醇修飾的方法是將C32-導向物_miRNA(較佳地溶于碳 酸鈉溶液)與過量的mPEG-SPA(較佳地溶于**中)反應。在本發明的另一方面，提供所述的納米核酸導向藥物的用途，用于制備靶向治療 疾病的組合物。在本發明的另一方面，提供一種組合物，含有有效量的所述的納米核酸導向藥物；以及藥學上可接受的載體。本發明的其它方面由于本文的公開內容，對本領域的技術人員而言是顯而易見 的。
一層由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出*終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
XMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。
研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產品。
一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。
以下為型號表供參考：
型號 | 標準流量 L/H | 輸出轉速 rpm | 標準線速度 m/s | 馬達功率 KW | 進口尺寸 | 出口尺寸 |
XMD2000/4 | 400 | 18000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
XMD2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
XMD2000/10 | 4000 | 7200 | 44 | 22 | DN80 | DN65 |
XMD2000/20 | 10000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
XMD2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 90 | DN150 | DN125 |
XMD2000/50 | 60000 | 1100 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
納米核酸導向藥物均質膠體磨
