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北京海富達(dá)科技有限公司
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當(dāng)前位置:北京海富達(dá)科技有限公司>>實(shí)驗(yàn)器材>>折射儀>> M403191高真空磁控濺射儀 型號(hào):KM1-SD-650MH

高真空磁控濺射儀 型號(hào):KM1-SD-650MH

參  考  價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)M403191

品       牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地北京市

更新時(shí)間:2022-02-22 14:20:48瀏覽次數(shù):1068次

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高真空磁控濺射儀 型號(hào):KM1-SD-650MH

參數(shù):
儀器主機(jī)尺寸: 長(zhǎng) 610mm×寬 420mm×高 220mm(注:含腔體總高 490mm)
工作腔室尺寸: 標(biāo)配:玻璃腔體(高度可選):直徑 260mm×高 200mm(外尺寸)
直徑 240mm×高 200mm(內(nèi)尺寸)
選配:金屬腔體:直徑 260mm×高 270mm(外尺寸 )
直徑 210mm×高 270mm(內(nèi)尺寸)

高真空磁控濺射儀  型號(hào):KM1-SD-650MH  

原理:
濺射鍍膜的原理是稀薄氣體在
異常輝光放電產(chǎn)生的等離子體在電
場(chǎng)的作用下,對(duì)陰極靶材表面進(jìn)行轟
擊,把靶材表面的分子、原子、離子
及電子等濺射出來(lái),被濺射出來(lái)的粒
子帶有一定的動(dòng)能,沿一定的方向射
向基體表面,在基體表面形成鍍層。
濺射時(shí)產(chǎn)生的快電子在正交的電磁
場(chǎng)中作近似擺線運(yùn)動(dòng),增加了電子行
程,提高了氣體的離化率,同時(shí)高能
量粒子與氣體碰撞后失去能量,基體
溫度較低,在不耐溫材料上可以完成
鍍膜。
用途:
KM1-SD-650MH 高真空磁控濺射鍍膜儀是袖珍型磁控濺射
設(shè)備,主要由濺射真空室、磁控濺射靶、樣品臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測(cè)
量及電控系統(tǒng)等部分組成。高真空濺射可用于金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多種薄膜材料的
制備,且具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),可用于大專、科研
院所的薄膜材料研究、制備。

高真空磁控濺射儀  型號(hào):KM1-SD-650MH  

參數(shù):
儀器主機(jī)尺寸: 長(zhǎng) 610mm×寬 420mm×高 220mm(注:含腔體總高 490mm)
工作腔室尺寸: 標(biāo)配:玻璃腔體(高度可選):直徑 260mm×高 200mm(外尺寸)
直徑 240mm×高 200mm(內(nèi)尺寸)
選配:金屬腔體:直徑 260mm×高 270mm(外尺寸 )
直徑 210mm×高 270mm(內(nèi)尺寸)
靶頭: 標(biāo)配:?jiǎn)伟?br/> 選配:雙靶(雙靶儀器主機(jī)尺寸和工作腔體尺寸會(huì)隨之增大)
靶材尺寸: 直徑 50mm×厚 3mm(因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同)
靶材料: 標(biāo)配一塊直徑 50mm×3mm 的銅靶(可選配多種靶材)
靶槍冷卻方式: 水冷
真空系統(tǒng): 抗沖擊渦輪分子泵,抽速為 300L/s
前級(jí)機(jī)械泵: 抽速為 4L/s,帶防返油電磁閥及油污過濾器
真空測(cè)量: 采用復(fù)合真空計(jì)監(jiān)測(cè)真空
真空度: 5×10
-5Pa(10 分鐘可到 9×10
-4Pa)
電源: 標(biāo)配:直流恒流電源:輸入電壓:220V
輸出電壓:0-600v
輸出電流:0-1.6A
選配:射頻功率電源:功率 1000W,配射頻匹配器。
載樣臺(tái): 直徑 200mm,可根據(jù)客戶需求定制載樣臺(tái)。
工作氣體: Ar 等惰性氣體(需自備氣瓶及減壓閥)
氣路: 濺射真空度手動(dòng)調(diào)整(可選配氣體質(zhì)量流量計(jì))
水冷: 自循環(huán)冷卻水機(jī)
電源電壓: 220V 50Hz
啟動(dòng)功率 3KW

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