Pfeiffer 分子泵在LOW-E(低輻射玻璃)生產(chǎn)線中的應用
LOW-E全名Low emissivity,是低輻射鍍膜玻璃。相對熱反射玻璃而言是一種新型節(jié)能玻璃。目前國際上普遍采用真空磁控濺射鍍膜技術(shù)(離線法)生產(chǎn)Low-E玻璃。伯東公司銷售的德國普發(fā) Pfeiffer 分子泵成功應用于此。
原理:玻璃垂直放置在架子上,送入10-1帕數(shù)量級的真空環(huán)境中,通入適量的工藝氣體(惰性氣體Ar或反應氣體O2、N2),并保持真空度穩(wěn)定。將靶材Ag、Si等嵌入陰極,并在與陰極垂直的水平方向置入磁場從而構(gòu)成磁控靶。以磁控靶為陰極,加上直流或交流電源,在高電壓的作用下,工藝氣體發(fā)生電離,形成等離子體。其中,電子在電場和磁場的共同作用下,進行高速螺旋運動,碰撞氣體分子,產(chǎn)生更多的正離子和電子;正離子在電場的作用下,達到一定的能量后撞擊陰極靶材,被濺射出的靶材沉積在玻璃基片上形成薄膜。為了形成均勻一致的膜層,陰極靶靠近玻璃表面來回移動。為了取得多層膜,必須使用多個陰極,每一個陰極均是在玻璃表面來回移動,形成一定的膜厚。
德國普發(fā) PFEIFFER 憑借其120多年的真空制造經(jīng)驗和范圍內(nèi)的售后服務和技術(shù)支持贏得LOW-E市場客戶的青睞,德國馮.阿登納(VON ARDENNE)是最典型的客戶。PFEIFFER 分子泵的LOE-E生產(chǎn)線使用在信義玻璃,南玻等中國玻璃制造。
Pfeiffer 分子泵優(yōu)點:
- 多抽速供客戶選擇,抽速為1,000至2,000L/S
- 對于H2,He和Ar,CF4有高的抽速
- 安裝位置從0到90度,90到180度
- 高的氣體流通量,即使是Ar,CF4
- 集成的TC 1200驅(qū)動單元可直接連接電源
- 抗腐蝕能力供選擇
- 豐富的接口界面:RS-485以及遠程控制;profibus或者Devicenet可供選擇
- 擁有IP 54和Semi S2 等級
- 穩(wěn)定安全的轉(zhuǎn)子軸承系統(tǒng)
- 符合UL,CSA以及TUV認證
- 簡單的安裝