SPS(POLOS)桌面原子層沉積系統AT200 ALD
波洛斯提供各種沉積系統。桌面原子層沉積或ALD系統是解決問題和制造納米級器件的寶貴工具。我們的系統適用于多達5條生產線。
產品說明
桌面原子層沉積系統2英寸
了解市場上最小尺寸的ALD工具。AT200M專為簡單的操作和安裝而設計，主要面向教育和計量市場，在這些市場中，小尺寸和成本效益是最大的關注點。
AT200M采用半導體級元件、金屬密封線和強大的PLC驅動用戶界面，可產生快速循環和高質量的單組分薄膜，同時還實現了易于維護和安全、可重復的操作。
特征
小尺寸臺式熱ALD系統
庫存可立即運往世界各地。
容納來自2英寸x 2英寸x 3英寸或兩個2英寸圓形晶片的樣品(可定制的卡盤)
2個帶有伴熱管線的前體端口
通風前體外殼
高溫兼容的快速脈沖ALD閥，具有用于集成惰性氣體吹掃的超快速MFC標準
最多2個加熱前體
全不銹鋼容器，溫度范圍為250℃
靜態處理模式下可獲得高曝光
集成PLC控制的5英寸顯示屏
包括終身軟件升級
1年保修(包括零件和人工)
特點：
市場上最小的ALD工具
快速循環和高質量單組分薄膜
易于維護和安全，可重復的操作
靜態處理模式下可獲得高曝光
SPS(POLOS)桌面原子層沉積系統AT200 ALD
