濕法腐蝕和濕法清洗在很早以前就已在半導體生產上被廣泛接受和使用，許多濕法工藝顯示了其*的性能。硅片清洗也顯得尤為重要.濕法腐蝕是一種半導體生產中實現圖形轉移的工藝,由于其高產出,低成本,高可靠性以及有很高的選擇比仍被廣泛應用.
刻蝕機，濕法刻蝕機用途：
清洗、顯影、腐蝕、自動氫氟酸清洗臺、去膠臺等，該系列設備主機選用進口磁白PP防腐材料，結構美觀，潔凈度高。可選配QDR清洗槽、三級清洗槽、超聲清洗槽以及石英、NPP、PTFE、PVDF、316不銹鋼等材質的槽體。可提供適用于2-12英寸晶片的濕法工作，是半導體制作工藝的理想設備。清洗機有自動、手動系列產品。用于半導體芯片、襯底片的清洗及濕法腐蝕、去膠、去蠟、剝離等工藝的專用設備。
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公司坐落于中國上海，奉賢區柘林鎮工業園區。公司擁有多臺*的專業生產設備，公司是一個專注多年熱處理設備、儀器設備的生產廠家，擁有高的技術人才，高素質的工作團隊，豐富的生產經驗。主要業務項目有：半導體濕法設備， 硅片刻蝕機，清洗設備，HMDS預處理系統，HMDS烤箱，無塵烤箱，無氧烤箱，無塵無氧固化烤箱，真空烤箱，真空無氧固化烤箱，干燥烘箱，黑蒜設備，環境可靠性設備，電線電纜檢測儀器等設備，同時可根據客戶要求設計非標類的產品。
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刻蝕機，濕法刻蝕機 產品信息
刻蝕機，濕法刻蝕機簡介：
