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*是由顆粒極細的含水鋁硅酸鹽，較早的資料就有資料記載其具有藥用效果，如在《本草綱目拾遺》中介紹膨潤土可用于治療外傷和解毒，并將其歸納為中藥的一種。*混懸液由主藥*、助懸劑、矯味劑等組成，用于治療腹瀉及消化道潰瘍等*。其具有服用劑量準確、服用攜帶方便、粒度較細、服用后可快速分散到人體消化道、效果更好等多種優點。鑒于此，我們擬將*制備成混懸劑以克服上述*散劑的缺點。混懸液的制備原則首先是使粉粒潤濕并在液體分散介質中均勻分散，保持一定條件使其盡量不聚集，然后采取一定的措施防
止結塊。
制備方法通常混懸液的有兩種：分散法和凝聚法。由于*本身的性質我們采用的是分散法，混懸液中微粒的大小不僅關系到混懸液的質量和穩定性，也會影響混懸液的藥效和生物利用度。所以測定混懸液中微粒大小及其分布，是評定混懸液質量的重要指。由于本研究的*采用的是法國益普生公司研制的商品名為思密達的*散劑，故其微粒大小符合要求，無需測其微粒大小。
當*混懸液的工藝配方確定時，為了降低沉降系數，我們可以通過減小粒子的半徑來縮小沉降系數。*混懸液粒徑的細化，取決于分散設備的選擇。如果采用IKN研磨分散機的話，不僅可以對*混懸液粒徑進行細化，還可以將混懸液分散的更均勻。這取決于上海依肯研磨分散機的特殊設計，IKN研磨分散機將膠體磨和分散機合二為一，先研磨細化粒徑，再對物料進行分散，使*混懸液更加細膩、均勻、穩定。
CMD2000系列研磨分散設備是IKN（上海）公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
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CMD2000系列研磨分散機的結構：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
*混懸液CMD2000系列研磨分散機的特點：
① 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨
② 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。
*混懸液分散機選型表
CMD2000系列
研磨分散機 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN | |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 | |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 | |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 | |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 | |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 | |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 | |
| | 流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調節到zui大允許量的10%。 |
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