石墨烯復合材料研磨設備，石墨烯納米金屬研磨設備，高剪切研磨分散機
石墨烯由于*的納米結構和優異的性能，有望成為一類新的電子材料、薄膜材料、儲能材料、液晶材料、催化材料等*的特種功能材料。石墨烯納米復合材料是石墨烯應用的重要領域，盡管石墨烯的納米復合材料研究進展緩慢，相信隨著研究的不斷深入，石墨烯的納米復合材料會越來越多，其相應領域和應用前景將非常廣闊。目前研發出來的主要有石墨烯-金屬納米復合材料、TiO2/石墨烯復合材料等。
在合成石墨烯復合材料時，使用的都是微納米級顆粒，還需將金屬顆粒和石墨烯顆粒進行研磨，且要防止這些超細微顆粒抱團，必須用到納米級研磨分散機，上海依肯高剪切研磨分散機CMD2000系列轉速高達9000rpm（也可定制轉速14000rpm超高速），進口電機經久耐用，接觸材質全部采用316L不銹鋼，*研磨技術和流行立式結構，是石墨烯和微納米級顆粒研磨分散的*選擇；上海依肯在石墨烯研磨方面已經有上百例成功實驗，是國內*廠家和研究院的*供應商。
IKN研磨分散機CMD2000系列（石墨烯復合材料研磨設備，石墨烯納米金屬研磨設備，高剪切研磨分散機）
CMD2000系列研磨分散設備是IKN（上海）公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
IKN高剪切研磨分散機的特點（）：
IKN研磨分散機是上海機械設備公司和德國IKN工程師合作研發的一款高科技產品，由膠體磨、分散機組合而成；是國內*一款將研磨和分散兩種功能結合的zui*的流體設備。
- 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力非常強烈，通常所說的超細濕磨
- 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
3.定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
4.在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
5.高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。
6.具體設備咨詢：蔡 ，公司有樣機提供實驗。
CMD2000系列研磨分散機的結構：
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
CMD2000系列設備選型表：
型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN | |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 | |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 | |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 | |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 | |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 | |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 | |
| 流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調節到zui大允許量的10%。 |
1.表中上限處理量是指介質為“水"的測定數據。
2.處理量取決于物料的粘度，稠度和zui終產品的要求。
3.如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，必須提供準確的參數，以便選型和定制。
4.本表的數據因技術改動，定制而不符，正確的參數以提供的實物為準.
研磨分散機和均質機的作用對比：
研磨分散機的細化作用一般來說要強于均質機，但它對物料的適應能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質機的前道或者用于高粘度的場合。
