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晶圓濕法清洗機

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更新時間：2017-07-05 04:49:54瀏覽次數(shù)：1229次

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經(jīng)營模式：經(jīng)銷商

商鋪產品：17條

所在地區(qū)：北京

聯(lián)系人：耿彪 （經(jīng)理）

產品簡介

晶圓濕法清洗機

一、產品描述：設備用于半導體工藝中對硅片周邊進行濕法化學腐蝕形成均勻*的斜角，技術*，產品*性強，適用于規(guī)模生產。

詳細介紹

晶圓濕法清洗機

一、產品描述：設備用于半導體工藝中對硅片周邊進行濕法化學腐蝕形成均勻*的斜角，技術*，產品*性強，適用于規(guī)模生產。

二、產品詳細描述：

1.設備由五大部分組成：清洗槽部分、伺服系統(tǒng)及機械臂部分、層流凈化系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、機架及整機。

2.清洗槽部分由有機溶劑槽、去離子水槽、酸槽或堿槽等組成。

3.關鍵件采用進口件，包括氣動閥，PFA管道、全氟循環(huán)系統(tǒng)，保證工作介質（酸、堿）的潔凈度，避免雜質析出。

4.工藝過程全自動，機械手在槽間的轉換由兩套伺服系統(tǒng)控制，可存儲多條工藝時序，方便使用。

5.人機界面為觸摸屏，方便直觀。

6.除裝片和取片需人工外，其余工藝動作均可自動完成，適用連續(xù)批量生產。

7.工作區(qū)設凈化裝置，內置高效過濾器，滿足工作區(qū)凈化要求（1000—100級，10級為特制）。

8.界面中有故障報警，安全保護，工藝時序號等功能。

三、主要指標：

1.全自動形式。

2.外形尺寸3100×1400×2500（長×寬×高）

3.適用硅片：4

 4.裝片能力：50片/批（2花籃，25片/花籃）

5.工作區(qū)潔凈度：100級

6.槽間工藝轉換時間：Tmax≤3.5s

 


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