氣體純化裝置

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產品簡介

氣體純化裝置氬氣凈化裝置1.1純化方法種：直接脫氧法

詳細介紹

氣體純化裝置

氬氣凈化裝置

1.1 純化方法

種：直接脫氧法。就是使用活性金屬、催化劑與氬氣中的氧氣進行反應，消化掉氬氣中的氧氣，從而達到脫氧的目的，經過分子篩吸收掉氬氣中的水份，使氬氣的含水量小于1ppm。

第二種：是采用吸氣劑。在一定溫度下，吸氣劑可吸收氮、氫、氧、一氧化碳、二氧化碳、甲烷等氣體經吸收處理后，氬氣的純度可達到6個九，這種工藝生產出來的高純氣體適用于各類儀器儀表適用要求。

1.2 技術參數

1. 處理氣量：5~1500 Nm3/h(可根據用戶需要訂做非標設備)
2. 原料氣要求：?液氬或者較好的管道氬均可使用
3. 工作壓力0.2-1.6MPa可調
4. (氬氣凈化器)凈化效能：純化后符合并高于GB/T4842-2006的99.9996%要求

1.3 設備特點

1. 凈化劑則采用了國內較好的凈化材料。其特點有吸附深度好，吸收雜質氣體量大的特點，純度可達99.9999%以上;
2. 凈化器采用特殊結構和裝料方法，流速設計合理，氣流分布均勻;
3. 全B內外精拉管管路。采用進口卡套式球閥。杜絕了氣體流經管路的再次污染，一次安裝終身使用，真正做到零泄漏及運行。
4. 雙式結構,開機后一組工作，另一組再生、備用,而且RZ-YA-C系列半自動純化裝置工作和再生都自動進行,故能夠連續供氣,一臺能頂單式的兩臺使用。

1.4 應用領域

該系列氬氣純化裝置用于高純氣體充裝站、焊接、不銹鋼制造、冶煉，還用于半導體制造工藝中的化學氣相淀積、晶體生長、熱氧化、外延、擴散、多晶硅、鎢化、離子注入、載流、燒結等氬氣作為制作單晶及多晶硅的保護氣。