產品型號:380 N3000
產品名稱:Nicomp 380 N3000 納米激光粒度儀
產品標簽:粒度儀，激光粒度儀，納米粒度儀，粒徑分析儀，平均粒徑分布
1.【USP729】檢測項目I推薦;
2.符合中國藥典2010版;
3.的Nicomp多峰算法;
4.的自動稀釋模塊;
5.精確度高;
6.特為多組分不均勻體系設計;
7.模塊化設計便于維護和升級;
8.可配搭多種功率光源和檢測器
產品介紹：
專為復雜體系提供高精度粒度解析方案
NICOMP呈現的不僅僅是傳統的高斯正態分布，還有更多。。。。。。
NICOMP 380N3000納米粒徑分析儀
Nicomp 380 N3000 納米粒徑分析儀采用動態光散射原理檢測分析顆粒的粒度分布，主要用于檢測納米級別的膠體體系，其粒徑檢測范圍 0.3 nm- 10μm。Nicomp 380系列儀器復合采用了 Gaussian 單峰算法和的 Nicomp 多峰算法，對于多組分、粒徑分布不均勻液態分散體系的分析以及膠體體系的穩定性分析具有優勢，其優異的解析度及重現性是其他同類產品的。
基線調整自動補償功能和高分辨率多峰算法是Nicomp 380系列儀器所的兩個主要特點，通過多年在不同領域的實踐證明，Nicomp380系列儀器可以有效區分開相鄰峰，也可以識別并剔除少數較大粒子造成的雜峰。如下圖所示：
Nicomp 380納米粒徑分析儀可以有效區分開相鄰峰
| | 動態光散射&模塊化設計 標準配置的Nicomp 380 納米粒徑分析儀裝載了 15 mW的半導體激光光源，PMT探測器，以及固定90度檢測角。進樣方式為嵌入式樣品池。 Nicomp 380納米粒徑分析儀是在應用動態光散射技術上的基礎上加入多模塊方法的*粒度儀。隨著模塊的升級和增加，Nicomp 380的功能體系越來越強大，可以用于各種復雜體系的檢測分析。 |
| | 自動稀釋模塊 帶有的自動稀釋模塊消除了人工稀釋高濃度樣品帶來的誤差，且不需要人工不斷試錯來獲得合適的測試濃度，這大大縮短了測試者寶貴時間，且無需培訓，測試結果重現性好，誤差率＜1%。 |
| | 380/HPLD大功率激光器 美國PSS粒度儀公司在開發儀器的過程中，考慮到在各種實驗測試條件中不同的需求，對不用使用條件和環境配置了不同功率的激光發生器。大功率的激光器可以對極小的粒子也能搜集到足夠的散射信號，使得儀器能夠得到極小粒子的粒徑分布。同樣，大功率激光器在測試大粒子的時候同樣也很有幫助，比如在檢測右旋糖酐大分子時，折射率的特性會引起光散射強度不足。 因為大功率激光器的特性，會彌補散射光強的不足和衰減，測試極其微小的微乳、表面活性劑膠束、蛋白質以及其他大分子不再是一個苛刻的難題。即使沒有色譜分離，Nicomp 380納米粒徑分析儀甚至也可以輕易估算出生物高分子的聚集程度。 |
| | 雪崩二極管 (APD) 探測器
Nicomp 380納米粒徑分析儀可以裝配各種大功率的激光發生器和級別的雪崩二極管檢測器（相比較傳統的光電倍增管有7倍放大增益效果）。 APD通常被用于散射發生不明顯的體系里來增加信噪比和敏感度，如蛋白質、不溶性膠束、濃度極低的體系以及大分子基團，他們的顆粒的一般濃度為1mg/mL甚至更低，這些顆粒是由對光的散射不敏感的原子組成。APD外置了一個大功率激光發生器模塊，在非常短的時間內就能檢測分析納米級顆粒的分布情況。
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| | 380/MA多角度檢測器
粒徑大于100 nm的顆粒在激光的照射下不會朝著各個方向散射。多角度檢測角器通過調節檢測角度來增加粒子對光的敏感性來測試某些特殊級別粒子。Nicomp 380可以配備范圍在10°-175°，步長0.9°的多角度測角器，從而使得單一90°檢測角測試不了的樣品，通過調節角度進行檢測，改善對大粒子多分散系粒徑分析的精確度。
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| | NICOMP 380 N3000 納米粒徑分析儀產品優勢
| 檢測范圍 | 0.3 nm -10 μm | | 測量 | 無需校準 | | 應用領域廣 | 檢測速度快 | | 靈敏度高 | 對團聚粒子靈敏度高（D6） | | 功能全面 | 使用簡捷 | | 復合型算法 | 高斯（Gaussion）單峰算法與的Nicomp多峰算法結合 | | 模塊化設計 | 可同機搭載ZETA電位檢測模塊，還可增加自動稀釋和自動滴定等輔助測試模塊 | |
工作原理：
動態光散射原理
Nicomp 380納米粒徑分析儀采用動態光散射（Dynamic Light Scattering, DLS）原理來獲得范圍在0.3 nm到10 μm的膠體體系的粒度分布。DLS是通過一定波長的聚焦激光束照射在懸浮于樣品溶液的粒子上面，從而產生很多的散射光波。這些光波會互相干涉從而影響散射強度，散射強度隨時間不斷波動，二者之間形成一定的函數關系。粒子的擴散現象（或布朗運動）導致光強不斷波動。光強的變化可以通過探測器檢測得到。使用自相關器分析隨時間而變的光強波動就可以得到粒度分布系數（Particle size distribution, PSD）。單一粒徑分布的自相關函數是一個指數衰減函數，由此可以很容易通過衰減時間計算得到粒子擴散率。最終，粒子的半徑可以很容易地通過斯托克斯（Stokes-Einstein）方程式計算得到。
如下是Nicomp 380納米粒徑分析儀的檢測原理簡圖：
大部分樣品一般都不均勻，往往會呈現多分散體系狀態，即測出來的粒徑正態分布范圍會比較大，直觀的呈現是粒徑分布峰比較寬。自相關函數是由多組指數衰減函數綜合組成，每一個指數衰減函數都會因指數衰減時間不同而存在差異，此時計算自相關函數就變得不再簡單。
Nicomp 380納米粒徑分析儀巧妙運用了去卷積算法來轉化原始數據，從而得出真實值的粒度分布。Nicomp 尤其適合測試粒度分布復雜的樣品體系，利用一組的去卷積算法將簡單的高斯正態分布模擬成高分辨率的多峰分布模式，這種去卷積分析方法，即得到PSS粒度儀公司的粒徑分布表達方法—Nicomp分布（Nicomp Distribution）。
有些儀器的高斯分析模式可以使用基線調整參數的功能，以此來補償測試環境太臟而超出儀器靈敏度的問題。高斯分析模式也可以允許使用者“固體重量模式"或者“囊泡重量模式"來分析帶有小囊泡的膠體體系，比如脂質體。
Nicomp分析方法是一種的高分辨率的去卷積算法，它在1990年提出并應用于分析和統計粒徑分布。在歷已經證明Nicomp分析方法能夠精確分析非常復雜的雙峰樣品分散體系（比如 2：1比例），甚至是三峰樣品分散體系。在科學研究中，找到粒子聚集分布的雜峰是非常有用的。
儀器參數：
| 粒徑檢測范圍 | 粒度分析：0.3 nm - 10 μm |
| 數字相關器通道數 | 1024 |
| 分析方法 | 動態光散射，Gaussian 單峰算法和 Nicomp 無約束自由擬合多峰算法 |
| pH值范圍 | 2 - 12 |
| 溫度范圍 | 2℃ - 90 ℃ |
| 激光光源（可選） | 5 mW氦氖光源； 15 mW, 35 mW,50 mW激光光源； 100 mW激光光源（紅）； 20 mW，50 mW，100 mW激光光源（藍/綠） |
| 檢測角度（可選） | 90°或 多角度（10°- 175°，可選配） |
| 檢測器（可選） | PMT（光電倍增管）， CMP（4倍增益放大） APD雪崩二極管（7倍增益放大） |
| 高濃度樣品背散射 | 175°背散射 |
| 可用溶劑 | 水相,絕大多數有機相 |
| 樣品池 | 標準4 mL樣品池（1cm×4cm，高透光，石英玻璃或塑料）； 1mL樣品池（玻璃，高透光率微量樣品池，最小進樣量10μL） |
| 選配模塊 | ZETA電位模塊（高頻相位分析技術，PALS） 高濃度背散射；自動稀釋模塊，自動進樣器，多角度檢測器，高能激光發生器，高增益檢測器，21CFR PART11規范軟件，在線模塊。 |
| 分析軟件 | Windows 兼容軟件； 符合 21 CFR Part 11 規范分析軟件（可選） |
| 驗證文件 | 有 |
| 電壓 | 220 – 240 VAC，50Hz 或100 – 120 VAC，60Hz |
| 計算機配置要求 | Windows XP及以上版本windows操作系統，40Gb硬盤，1G內存，光驅，USB接口，串口（COM口） |
| 外形尺寸 | 56 cm * 41 cm * 24cm |
| 重量 | 約26kg（與配置有關） |
應用領域：
NICOMP 380N3000納米粒徑分析儀廣泛適用于檢測懸浮在水相和有機相的顆粒物。
1）磨料
磨料既有天然的也有合成的，用于研磨、切削、鉆孔、成形以及拋光。磨料是在力的作用下實現對硬度較低材料的磨削。磨料的質量取決于磨料的粗糙度和顆粒的均勻性。
2）化學機械拋光液(CMP SLURRY)
化學機械拋光是半導體制造加工過程中的重要步驟。化學機械拋光液是由腐蝕性的化學組分和磨料(通常是氧化鋁、二氧化硅或氧化鈰)兩部分組成。拋光過程很大程度上取決于晶片表面構型。晶片的加工誤差通常以埃計，對晶片質量至關重要。拋光液粒度越均勻、不聚集成膠則越有利于化學機械拋光加工過程的順利進行。
3）陶瓷
陶瓷在工業中的應用非常廣泛，從磚瓦到生物科研材料及半導體領域。在生產加工過程中監測陶瓷顆粒的粒度及其粒度分布可以有效地控制最終產品的性能和質量。
4）粘土
粘土是一種含水細小顆粒礦物質天然材料。粉砂與粘土類似，但粉沙的顆粒比粘土大。粘土中易于混雜粉砂從而降低粘土的等級和使用性能。ISO14688定義粘土的顆粒小于63μm。
5）涂料
涂料種類繁多，用途廣泛。涂料的顆粒大小及粒度分布直接影響涂料的質量和性能。
6）污染監測
粒度檢測分析在產品的污染監測方面起著重要作用，產品的污染對產品的質量影響巨大。絕大多數行業都有相應的標準、規程或規范，必須嚴格遵守和執行，以保證產品滿足質量要求。
7）化妝品
無論是普通化妝品還是保濕劑、止汗劑，它們的性能都直接與粒度的大小和分布有關。化妝品的顆粒大小會影響其在皮膚表面的涂抹性能、分布均勻性能以及反光性能。保濕乳液(一種乳劑)的粒度小于200納米時才能被皮膚良好吸收，而止汗劑的粒度只有足夠大時才能阻塞毛孔起到止汗的作用。
8）乳劑
乳劑是兩種互不相溶的液體經乳化制成的非均勻分散體系，通常是水和油的混合物。乳劑有兩種類型，一種是水分散在油中，另一種是油分散在水中。常見的乳劑制品有牛奶（水包油型）和黃油（油包水型），加工過程中它們均需均質化處理到所需的粒徑大小以期延長保質期。
9）食品
食品的原料（粉末及液體）通常來源于不同的加工廠，不同來源的原料必須滿足某些特定的標準以使最終制品的質量均一穩定。原料性質的任何波動都會對食品的口味和口感產生影響。用原料的粒度分布作為食品質量保證和質量控制（QA/QC）的一個指標可確保生產出質量均以穩定的食品制品。
10）液體工作介質/油
液體工作介質（如：油）越來越昂貴，延長液體介質的壽命是目前普遍關心的問題。機械設備運轉過程中會產生金屬屑或顆粒落入工作介質中（如：油浴潤滑介質或液力傳遞介質），因此需要一種方法來確定介質（油）的更換周期。通過監測工作介質（油）中顆粒的分布和變化可以確定更換工作介質的周期以及延長其使用壽命。
11）墨水
隨著打印機技術的不斷發展，打印機用的墨水變得越來越重要。噴墨打印機墨水的粒度應當控制在一定的尺度以下，且分布均勻，大的顆粒易于堵塞打印頭并影響打印質量。墨水是通過研磨方法制得的，可用粒度檢測分析儀器設備監測其研磨加工過程，以保證墨水的顆粒粒度分布均勻，避免產生聚集的大顆粒。
12） 膠束
膠束是表面活性劑在溶液中的濃度超過某一臨界值后，其分子或離子自動締合而成的膠體尺度大小的聚集體質點微粒，這種膠體質點與離子之間處于平衡狀態。
乳液、色漆、制藥粉體、顏料、聚合物、蛋白質大分、二氧化硅以及自組裝TiO_2納米管(TNAs)等
