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東譜科技（廣州）有限責任公司
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PlasmaQuantMSICP-MS：(1)的等離子體：獲得穩定強勁的等離子體所消耗氬氣量僅為常規儀器的一半
PlasmaQuant MS ICP-MS ：
(1)的等離子體：獲得穩定強勁的等離子體所消耗氬氣量僅為常規儀器的一半；
(2)的iCRC集成式碰撞反應池：有效去除多原子分子干擾，不損失其它干擾元素靈敏度的前提下獲得更好的碰撞反應效果；
氣體切換快速，無需額外維護；
(3)ReflexION離子反射技術：3D聚焦離子反射鏡獲得的靈敏度，其靈敏度達到同類產品的5倍以上；
(4)高解析四極桿：3MHz的掃描速度，可獲得的質譜分離；檢測駐留時間低至50μs；
(5)全數字脈沖技術檢測器：ICP-MS領域中的全數字檢測器，線性范圍達10個數量級，無需頻繁的脈沖和模擬雙模式交叉校準，無需稀釋即可進行痕量到常量的元素分析，使用壽命超長；
(6)強性能優異的真空系統：冷開機5min即可達到做樣標準，真空度可達10-9τ；業內的雙分子渦輪泵，一般負載低于50%，使用壽命更長。
這些技術的采用讓PlasmaQuant MS 在靈敏度、線性范圍、檢出限、穩定性等方面更上一個新臺階。其還可配備潔凈室組件、樣品導入系統、自動進樣器等配件，可靈活、快速實現普通靈敏度模式和高靈敏度模式之間的切換，滿足日常分析和研究級的各種應用。
特點：
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