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賽默飛 ELEMENT GD PLUS 輝光放電質(zhì)譜儀

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

賽默飛 ELEMENT GD PLUS 輝光放電質(zhì)譜儀結(jié)合了輝光放電離子源和雙聚焦高分辨率質(zhì)量分析器,可以定性定量分析固體樣品中包括C、N、O在內(nèi)的幾乎所有元素,是直接、快速分析高純樣品雜志含量和鍍層材料元素組成的*工具。

詳細(xì)介紹

賽默飛 ELEMENT GD PLUS 輝光放電質(zhì)譜儀結(jié)合了輝光放電離子源和雙聚焦高分辨率質(zhì)量分析器,可以定性定量分析固體樣品中包括C、N、O在內(nèi)的幾乎所有元素,是直接、快速分析高純樣品雜志含量和鍍層材料元素組成的zui佳工具。

了解如何借助 賽默飛 ELEMENT GD PLUS 輝光放電質(zhì)譜儀為固體中高級(jí)高純度材料的直接分析定義新的標(biāo)準(zhǔn)。通過(guò)限度減少校準(zhǔn)和樣品制備操作,可提高樣品處理量并達(dá)到超低檢測(cè)限,從而使 GD-MS 適合整塊金屬分析和深度剖析應(yīng)用。
陶瓷和其他幾種非導(dǎo)電粉末使用二次電極法進(jìn)行分析,從而提供相同水平的靈敏度和數(shù)據(jù)質(zhì)量。這使得 GD-MS 成為痕量金屬分析的可靠標(biāo)準(zhǔn)方法。
存在于固體樣品中的幾乎所有元素都可進(jìn)行常規(guī)檢測(cè)和定量:許多元素的含量低于十億分率 (ppb) 水平。
µs 脈沖式高流速輝光放電池
采用脈沖放電模式的高靈敏度離子源
廣泛可調(diào)的濺射速率適用于快速進(jìn)行整體分析和高級(jí)深度剖析應(yīng)用
使用二級(jí)電極進(jìn)行氧化鋁粉末分析
雙聚焦質(zhì)譜儀
高離子傳輸率和低背景使得信噪比可達(dá)亞 ppb 級(jí)檢測(cè)限
高質(zhì)量分辨率可提供zui高水平的選擇性和準(zhǔn)確度:是*的分析結(jié)果的先決條件
十二數(shù)量級(jí)的自動(dòng)檢測(cè)系統(tǒng)
在一次分析中測(cè)定基體和超痕量元素,全自動(dòng)檢測(cè)器涵蓋 12 數(shù)量級(jí)動(dòng)態(tài)線性范圍
直接定量測(cè)定基體元素 IBR(離子束比率)
高效率和簡(jiǎn)單易用的軟件包
所有參數(shù)均由計(jì)算機(jī)控制
全自動(dòng)調(diào)諧、分析和數(shù)據(jù)評(píng)估
自動(dòng) LIMS 連接性
遠(yuǎn)程控制和診斷
Windows 7
樣品周轉(zhuǎn)時(shí)間通常少于 10 分鐘
能夠在一次分析中測(cè)定基體元素到超痕量元素
深度剖析涵蓋數(shù)百微米到一納米的層厚度
最小化基體效應(yīng),便于進(jìn)行直接定量


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