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HTR-01桌式4英寸快速退火爐HTR-01桌式4英寸快速退火爐HTR-01A快速退火爐系列采用紅外輻射加熱技術
HTR-01 桌式4英寸快速退火爐 HTR-01 桌式4英寸快速退火爐
HTR-01A快速退火爐系列采用紅外輻射加熱技術,可實現1-10片樣品同時進行,可實現4寸晶圓片吋樣品快速升溫和降溫,同時搭配超高精度溫度控制系統,可達到的溫場均勻性,對材料的快速熱處理(RTP)、快速退火(RTA)、快速熱氮化(RTN)、快速熱氧化(RTO)及金屬合金化等研究和生產起到重要作用。 主要應用領域: 快速熱處理(RTP),快速退火(RTA),快速熱氧化(RTO),快速熱氮化(RTN);離子注入/接觸退火;金屬合金;熱氧化處理;化合物合金(砷化家、氮化物等);多晶硅退火;太陽能電池片退火;高溫退火;高溫擴散。產品特點 ● 快速加熱和降溫: 可控升溫速率可達50 ℃/s,特定條件下可以達到100 ℃/s。冷壁水冷設計能夠達到較大的降溫速率,特定條件下可達30 ℃/s。 ● 精確控溫: 采用工業級溫控器進行PID精確控溫,目標溫度與設定溫度曲線一致性高,可實現室溫至1200 ℃的溫度精確控制。 ● 適應多種工藝環境: 滿足多種工藝氣氛下的熱處理(氮氣、氬氣等)。同時,通過選配真空泵,可以在真空條件下進行退火,真空度可達10-5Pa。 ● 配備觀察窗口: 通過觀察窗口,可以實時觀察熱處理過程中的樣品變化。同時,可以結合相關測試方法進行原位測試分析。 ● 超高安全系數: 采用爐壁超溫報警系統和冷卻水流量報警系統,保障儀器使用安全。 ● 售后服務:,能快速反應客戶售后需求。
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