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電子芯片清洗用超純水設備-50T/H

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更新時間:2023-04-25 16:47:59瀏覽次數:412次

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產品簡介

詳細介紹

  一、電子芯片清洗用超純水設備-50T/H概述

  電子芯片清洗用超純水設備-50T/H的產水量是每小時50噸,出水水質滿足工業清洗行業用水要求。電子芯片清洗用超純水設備主要由超濾設備、反滲透設備、離子交換設備、EDI裝置等組合而成。

超純水設備

  二、電子芯片清洗用超純水設備-50T/H的優勢分析

  1、工藝的設計細微周到,元件的材質、性能、設計的流量、流速、壓力等均符合國家的標準規范及國外材料商的規定要求。

  2、制水過程高度自動化,自動進水,自動制水,純水箱滿水自動停機,用水后自動恢復,可*實現無人值守的運行。

  3、可選用可編程控制(PLC),計算機觸摸屏控制,遠程數據采集及監控等*技術,使產品更具現代化特色。

超純水設備

  三、電子芯片清洗用超純水設備-50T/H的工藝流程

  1、采用兩級反滲透方式,其流程如下:

  原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→級反滲透 →PH調節→中間水箱→第二級反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純化水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點。

  2、采用EDI方式,其流程如下:

  原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI系統→微孔過濾器→用水點。

  3、采用離子交換方式,其流程如下:

  原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→陽樹脂過濾床→陰樹脂過濾床→陰陽樹脂混床→微孔過濾器→用水點。

超純水處理設備

  四、電子芯片清洗用超純水設備-50T/H的技術指標

  (1) 脫鹽率大于99.9%,效率遠遠高于兩級反滲透和單純的離子交換。

  (2) 較傳統的離子交換法脫鹽節約樹脂95%以上。

  (3) 離子交換樹脂不需使用酸堿再生,節約大量酸堿和清洗用水,降低勞動強度。

  (4) 清潔生產,無廢水處理問題,利于環保。

  (5) 自動化程度高,易維護,可設計成完善的膜技術高純水生產線。

  (6) 產水電阻率15-18MΩ.cm,pH 6.5-7.0,硅<1.0ppb,*無菌。

  (7) 占地面積小,單一系統連續運轉,不需建設備用系統。

超純水處理設備

  五、電子芯片清洗用超純水設備-50T/H的水質指標

型號

電阻率

氧化矽

重金屬

KMnO4



微生物

PH

CAP-

10

0.01

0.01

60

0.1

0.1

微少

6-7

CAP-

0.5

0.01

0.01

60

0.01

0.01

微少

6-7

CAP-

0.2

0.01

0.01

60

0.1

0.1

微少

6-7

NCCLS

10

0.05

——

——

——

——

10

——

  電子芯片清洗用超純水設備運行穩定,耗能低,產水水質符合國家相關水質標準。萊特萊德作為專業的水處理設備生產廠家,我們生產的超純水設備具有專業的技術優勢和可靠性。萊特萊德是集設計、制造、銷售于一體的大型水處理生產廠家,我們售后服務好,品質有保證,歡迎廣大用戶光臨選購。

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