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Pfeiffer 氦質譜檢漏儀脈沖激光沉積系統 PLD 檢漏
脈沖激光沉積系統 PLD
脈沖激光沉積系統 Pulsed laser deposition 是制備高通量多晶薄膜, 外延薄膜和多層異質結構和超晶格結構的物理氣相沉積設備, 通常需要保證本底真空度達到 10-8mbar, 同時高真空環境對系統配置的 RHEED 及溫控系統等關鍵設備的壽命也至關重要.

脈沖激光沉積系統 PLD 需要檢漏原因
PLD 系統需要高真空環境, 腔室是否有泄露, 是否有內部材料放氣等因素對實現高真空及超高真空很關鍵. 因此需要對整個系統進行泄漏檢測. 氦質譜檢漏儀利用氦氣作為示蹤氣體可精確定位, 定量漏點. 因此廣泛應用于 PLD 設備檢漏.

脈沖激光沉積系統 PLD 檢漏客戶案例: 上海伯東某客戶 PLD 設備用來制備各種材料, 為了保證產品質量, 采購氦質譜檢漏儀 ASM 340 搭配使用.

生長多層膜（TiN/ALN）結構, 各層膜厚度可調	高通量制備具有不同材料成分的100種材料	PLD 制備的 Ag 的納米多孔材料

脈沖激光沉積系統 PLD 檢漏方法
采用真空模式檢漏, 通過波紋管連接需要檢漏的腔體, 設定好需要的漏率值
在懷疑有漏的地方噴氦氣（一般需要檢漏的部位是焊縫或連接處）,如果有漏,檢漏儀會出現聲光報警同時在屏幕上顯示當前漏率值.
氦質譜檢漏儀脈沖激光沉積系統 PLD 檢漏
上海伯東* Pfeiffer 氦質譜檢漏儀 ASM 340 三種類型可選

型號	ASM 340 WET	ASM 340 D	ASM 340 I
對氦氣的小檢測漏率, 真空模式	5E-13 Pa m3/s	5E-13 Pa m3/s	5E-13 Pa m3/s
檢測模式	真空模式和吸模式	真空模式和吸模式	真空模式和吸模式
檢測氣體	4He, 3He, H2	4He, 3He, H2	4He, 3He, H2
對氦氣的抽氣速度 l/s	2.5	2.5	2.5
進氣口大壓力 hPa	25	25	5
前級泵抽速 m3/h	油泵 15	隔膜泵 3.4	不含前級泵
重量 kg	56	45	32

結合了 Pfeiffer 與 Adixen 兩家檢漏儀的技術優勢, 上海伯東德國 Pfeiffer 推出全系列新型號氦質譜檢漏儀, 從便攜式檢漏儀到工作臺式檢漏儀滿足各種不同的應用. 氦質譜檢漏儀替代傳統泡沫檢漏和壓差檢漏, 利用氦氣作為示蹤氣體可精確定位, 定量漏點. 氦質譜檢漏儀滿足單機檢漏, 也可集成在檢漏系統或 PLC. *氦質譜檢漏儀應用 >>

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