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萊特萊德（北京）純水設備技術股份有限公司
萊特萊德（北京）純水設備技術股份有限公司
半導體工業超純水特點介紹：
超純水主要應用于溶劑用水、化學分析、化工材料、產品清洗、物質的分離、濃縮、提純等場合，對于水質要求相對嚴格，我們公司可根據客戶對水質的具體要求，采用反滲透，EDI等超純水生產工藝的不同組合，生產出既經濟實用，又能滿足客戶要求的超純水設備。
產品信息和價格僅供參考，詳細可留言咨詢。
半導體工業對清潔水的電導率、離子含量、TOC、DO+和顆粒物的要求越來越嚴格。由于超純水在許多指標上對半導體的要求很高，因此半導體行業的超純水與其他行業的用水要求不同。半導體行業對超純水有極其嚴格的水質要求。
半導體工業是超純水應用的主要產業之一。在半導體加工過程中，需要用水進行處理。水質要求較高，不含任何離子雜質。半導體超純水設備可以有效去除水中雜質，保證設備出水水質。萊特萊德采用雙反+EDI+Huncotte系統組合工藝，出水可達18.2mΩ·cm。
反滲透系統采用反滲透原理，主要去除溶解鹽、有機物、膠體、高分子等，降低水質離子含量。EDI是結合離子交換膜技術和離子電遷移技術的純水制造技術。它不需要酸堿再生。這是一種新的脫鹽方法。EDI無需回收化學品，運行成本低，EDI超純水系統自動化程度高，可實現連續運行，出水水質良好穩定，出水電阻率高≥ 15mΩ·cm。Huncotte系統用于高純水處理系統的末端凈化器。可將水中離子含量降至ppb級，出水電阻率可達18.2mΩ·cm。為半導體帶來更好的性能優勢。
半導體工業超純水應用范圍
1、化工材料的生產和加工過程所用的溶劑及清洗過程
2、超純材料和超純化學試劑
3、實驗室和中試車間
4、電子半導體、集成電路板上用到的化工材料
5、石英、硅材料生產、加工、提純
6、高純墨水、打印機中的噴墨、納米墨水
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