3500/22M-01-02-CN本特利

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編程者經常違背的規則中有一條是“簡單化原則”。如果程序簡單，則是容易寫出，容易檢查的，而且是很少會出錯的。不是所有情況都要求7位精度或好的控制。本頁給出的綠棚說明了一個在學校中學到的基本原理是如何用來有效而廉價地解決問題的。本例中，雙金屬條用來檢測周圍溫度。這可以是一個控制所有窗戶的大型商業綠棚，或是有一個窗戶的花園綠棚。本例是控制四扇窗戶，每扇窗戶有一檢測溫度的雙金屬條，對每個雙金屬條，存在兩個輸入，一個對應金屬條冷的情況，這可以認為是常閉的，另一個對應金屬條熱的情況，即它變形時，可認為是一個常開接點。這些輸入與窗戶位置有直接關聯，如果過熱，雙金屬條彎曲，觸點接通，于是窗戶打開。當綠棚部分變冷時，雙金屬條伸直，窗戶關上。

要注意的是只用到一個PLSY指令，這是因為它的輸出如所要求的那樣，直接與四個電機中的每個相連(一個電機對應于一個窗戶)。檢測窗戶位置為全開或全關，如果其中一個條件存在，與它對應的控制電機就關斷。

 為了減少動力電纜輻射電磁干擾，尤其是變頻裝置饋電電纜。筆者在某工程中，采用了銅帶鎧裝屏蔽電力電纜，從而降低了動力線生產的電磁干擾，該工程投產后取得了滿意的效果。

不同類型的信號分別由不同電纜傳輸，信號電纜應按傳輸信號種類分層敖設，嚴禁用同一電纜的不同導線同時傳送動力電源和信號，避免信號線與動力電纜靠近平行敖設，以減少電磁干擾。

ZYGO KMS450i

Aetrium 1164

TEL Tokyo Electron P-12XL

KLA Tencor 5107 Overlay Inspection System, KLA 5100 

Semiconductor Diagnostics SDI 210, 210E-SPV

Fusion Semiconductor G03

LAM 490B AutoEtch 490 Plasma Etcher w/ ENI OEM-6M-01

LAM 490B AutoEtch 490 Plasma Etcher w/ ENI OEM-6L

LAM 490B AutoEtch 490 Plasma Etcher w/ ENI OEM-650A 

LAM 590 AutoEtch 590B Plasma Etcher w/ ENI OEM-12A

Jeol SEM Scanning Electron Microscope Controller Rack, JST-10F

LAM LF 4500

Plasmatherm SL-730

LAM LF 4500 Plasma Etcher, LAM 2080TCU Chiller, ENI LPG-12A

               LAM LF 4400

Rudolph FE-3

MicroTech Systems Solvent Wet Bench, 4 Tanks, Autoprocess, 451062

DNS Screen DNS 80A

AMAT Applied Materials Precision 5000 Nitride PARC PECVD System P5000, 325970

Carl Zeiss AIMS 193

AMAT Precision 5000 Mark II PECVD System, P5000, Chamber, 200mm, 451064

Semitool SST 742 Polymer remover, SSTC742280K

Chemraz 9326-SC513, 2-326

AMAT 0620-02464

AMAT 0150-03990

AMAT 0150-04669