二氧化硅納米粒子（200nm）(25mg/ml)
中空nano-silicon dioxide(200nm)
介孔nano-silicon dioxide 200nm
二氧化硅納米粒子
物理性質(zhì)：
納米二氧化硅外觀為為無定形白色粉末，粒子尺寸范圍在1~100納米，微結(jié)構(gòu)為球形，呈絮狀和網(wǎng)狀的準(zhǔn)顆粒結(jié)構(gòu)。
溶解性能：不能溶于水和酸（氫氟酸除外）及有機(jī)溶劑，能溶于堿及氫氟酸。
穩(wěn)定性：穩(wěn)定
制造方法
納米SiO2的制備方法分為物理法和化學(xué)法兩種。
（1）物理法
物理法一般指機(jī)械粉碎法。利用超級(jí)氣流粉碎機(jī)或高能球磨機(jī)將SiO2的聚集體粉碎可獲得粒徑1～5微米的超細(xì)產(chǎn)品。該法工藝簡(jiǎn)單但易帶入雜質(zhì).粉料特性難以控制，制備效率低且粒徑分布較寬。
（2）化學(xué)法
化學(xué)法可制得純凈且粒徑分布均勻的超細(xì)SiO2顆粒。化學(xué)法包括化學(xué)氣相沉積(CVD)法、液相法、離子交換法、沉淀法和溶膠凝膠(Sol-Gel)法等，主要的生產(chǎn)方法還是以四氯化硅為原料的氣相法，以硅酸鈉和無機(jī)酸為原料的沉淀法和以硅酸醋等為原料的溶膠凝膠法。
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