品牌：高普樂Glopro型號：GPL-UV2019WH物方視場：22mm X12mm（25.0mm diameter)）鏡頭焦距/倍率：1.9X (±0.05%) .調(diào)整后鎖緊.產(chǎn)品特點：產(chǎn)品具有衍射極限的成像質(zhì)量、高分辨力、大視場、小畸變、高性能等優(yōu)勢。應(yīng)用領(lǐng)域：適用于微電子生產(chǎn)投影式光刻機等制作工藝。

詳細介紹

1.9：1多波段紫外制版鏡頭

　　多波段紫外制版鏡頭是微電子生產(chǎn)投影式光刻機的核心部件，隨著微電子生產(chǎn)工藝不斷向微細化、集成化發(fā)展，對光刻鏡頭的要求越來越高。要求具有衍射極限的成像質(zhì)量、高分辨力、大視場、小畸變，其性能直接決定了光刻機的圖形傳遞能力。制造光刻鏡頭除了設(shè)計出一個成像完善的光學(xué)系統(tǒng)和精選優(yōu)質(zhì)的光學(xué)玻璃外，關(guān)鍵在于光學(xué)加工、結(jié)構(gòu)設(shè)計裝配以及相關(guān)的測試技術(shù)等。

基本參數(shù)

物方視場：22mm X 12mm （25.0mm diameter）；

放大倍率：1. 9倍（土 0. 05%）；

像方尺寸：41.8 mm X 22.8 mm（47.5mm diameter）；

物方數(shù)值孔徑：0. 12 Na；

物像光路類型：物、像遠心光路；

物方工作距離：73.66 mm土0.5mm （從鏡頭小端機械端面到物面）；

像方工作距離：＞150. 0mm 士1. 0mm（在像方加3mm保護玻璃后機械端面到像面）；

設(shè)計波長范圍：350 nm ~ 410 nm；

透過率：>73%@355nm、>77%@375nm、>85%@405nm；

對比度（DMD成像）：1）亮場／暗場＞ 5000；

2）對比度=（P亮 - P暗）/P亮×99%）＞99.5%；

鏡頭固定可靠性：鏡頭按照現(xiàn)有固定方式安裝后，用 M6 的六角匙敲引擎的任意位置，在停止敲擊時像的位置能恢復(fù)原位，位置變化≤5um；

像質(zhì)要求

像面所有視場內(nèi) MTF：＞0. 3 @100lp/mm；

畸變：＜0.02%（4um）@ 1.9 Field；

物、像遠心光路：主光線傾角＜0.5度；

焦深：士250µm；

場曲：偏差<60µm；

補充說明

1．外徑：< 100 mm，兩端用細牙螺紋；

2．鏡頭出光端加保護鏡片，保護鏡片易更換；

3．鏡頭長度：<206mm；

4．物像共軛距：430.0土1mm；

5．在40W紫外激光（405nm+355nm）照射300小時以上衰減＜3%；

6．內(nèi)表面做消光處理，且在長時間紫外照射下不揮發(fā)變色，雜光≤0.2%，黑白棋盤格比＜0.4%，沒有耀斑；

尺寸圖

圖圖.png

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